皮尔金顿北美公司生产的low-E镀膜的薄膜层由硬金属和金属氧化物组成。膜层在锡

　　槽中以硅、锡、金属及金属氧化物等在玻璃成形后通过化学气相沉积工艺（CVD）生产

　　而成。Low-E镀膜可应用于透明玻璃、浅灰玻璃（Solar-E）、银色或金色玻璃以及各种

　　厚度的透明及着色玻璃。EclipseAdvantage反射Low-E玻璃能够在快速加工设备上同时进

　　•大多数热弯使用的是慢速烘弯炉（循环时间以小时计算而非分钟），因此，在加

　　热循环中low-E玻璃的红外线热能反射特性不是重要因素。但如果使用“高速”

　　烘弯炉，其循环时间以分钟计算，Low-E的镀膜面可与清洁的辊道接触，通过热

　　•Low-E膜层薄且柔韧，但不会在玻璃烘弯温度下变成塑料。当6mm（1/4英寸）

　　玻璃热弯的曲率半径小于600mm（24英寸），会有在玻璃弯曲面外侧的镀膜层

　　采用皮尔金顿CVD工艺的Low-E玻璃进行热弯时其镀膜面可以朝上面向炉顶，也可

　　以朝下面向钢质模具，模具可用有滑石粉保护层或清洁的隔热纤维毯处理。当镀膜层承受

　　隔热层时（模具向上弯曲），在最初接触的部位会产生印记。可以采用在镀膜玻璃下面放

　　采用皮尔金顿CVD工艺的Low-E玻璃可进行单片或双片或配对热弯，热弯时镀膜面

　　面向另一片玻璃时，用一层细微、均匀（无结块）的滑石粉保护层。当配对热弯时镀膜面

　　不朝向另一片玻璃。当镀膜面与模具接触时，烘弯模表面必须清洁或覆盖一层清洁材料。

　　玻璃准备进入烘弯炉之前，必须用热水及清洁剂认真清洗，清水漂洗（蒸馏水或去离

　　子水），烘干时确保边部没有水滴，同时保证在镀膜面没有任何明显的指印或其他印记。

　　不要让玻璃的镀膜面在辊刷旋转的清洗剂中停留，否则会在膜层表面产生明显的印记。这

　　些印记在特定的光线条件下能够看见，比如阳光直射时，但在工厂照明的条件下，大多数

　　热弯过程中玻璃温度不得超过605°C(1120°F)，如超过该温度可能破坏膜层，产生局

　　Low-E膜层在钢化或半钢化急冷时不受影响，可生产弯玻璃。对于退火来说，如果镀

　　膜面面向空气且不与模具表面接触，玻璃镀膜面辐射热能损失降低，此时可以适当减慢冷

　　热弯完成后应将玻璃温度迅速降至550°C(1020°F)，再缓慢而平稳地（6mm(¼”)玻

　　更薄的玻璃退火、冷却应该更快，3mm(1/8”)玻璃的冷却应比6mm(¼”)玻璃快大约两

　　CVDLow-E镀膜比真空溅射镀膜坚韧，除了皮尔金顿OptiView增透玻璃在夹层时通

　　常将膜镀在第1或第4面，其他镀膜玻璃一般不将膜层暴露在第1面（外部面）使用。

　　CVDLow-E玻璃热弯或做其他处理时应该小心操作，以免造成玻璃划伤。镀膜面与模具

　　•成品需进行均匀度检测。在10米（30英尺）距离进行检测，玻璃后面放置黑

　　本文信息用于对皮尔金顿北美公司平板玻璃产品应用的支持，但并不构成商销性担